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本发明属于太阳能电池技术领域，特别涉及一种太阳能电池硅片刻蚀用水膜溶液及其应用。本发明提供了一种太阳能电池硅片刻蚀用水膜溶液，该水膜溶液为葡萄糖和双氟磺酰亚胺盐分散于水中所形成，采用上述水膜溶液在硅片的扩散面(正面)上形成保护层，再进入刻蚀...
该专利属于常州亿晶光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过常州亿晶光电科技有限公司授权不得商用。

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