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本发明提供了一种噻吩并四氢吡啶衍生物光学异构体的消旋方法，包括如下步骤：光学异构体在１０－５０％的碱水溶液中、相转移催化剂作用下于１－１１ａｔｍ压力条件下、８０－２００℃碱解得噻吩并四氢吡啶乙酸盐消旋体。本发明通过消旋体拆分，非目标手性化合...该专利属于浙江华海药业股份有限公司;中国科学院成都有机化学有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江华海药业股份有限公司;中国科学院成都有机化学有限公司授权不得商用。