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本发明目的在于提供一种材料生长设备中温控系统表显温度和材料实际生长温度间偏差的校订方法，适用于为各种溅射设备配置的加热控温系统。该方法利用金属在一定条件下具有已知固定熔点的特性，将金属薄片挤压贴合于基片表面，通过加热系统缓慢加热，观看金属熔...
该专利属于云南大学所有，仅供学习研究参考，未经过云南大学授权不得商用。

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