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本发明涉及用于电器件中的载流结构的金属化部及其制造方法，该金属化部布置在衬底（S）上，且具有基座、布置在该基座上的上覆层（TL）以及该基座中的布置在下层（BL）与上层（UL）之间的中间层（ML），其中基座包括下层（BL），该下层布置在衬底表...
该专利属于埃普科斯股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过埃普科斯股份有限公司授权不得商用。

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