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本发明涉及一种激光诱导材料还原性制备多形态金纳米结构的方法，属于微纳米制造领域。该方法通过飞秒激光脉冲序列聚焦到二硫化钼薄膜表面，诱导出二硫化钼薄膜表面不同程度的还原性，得到被改性后的二硫化钼薄膜。将改性后的二硫化钼薄膜浸入浓度为0.2～8...
该专利属于北京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京理工大学授权不得商用。

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