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本发明提供一种阵列基板及其制作方法。本发明的阵列基板的制作方法，通过采用一半色调光罩、及一道光刻制程对钝化层及刻蚀阻挡层进行图案化处理，在钝化层上形成对应于源极上方的第一过孔，在刻蚀阻挡层上形成位于源极与漏极之间的第二过孔与第三过孔，之后通...
该专利属于深圳市华星光电技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市华星光电技术有限公司授权不得商用。

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