下载一种MOCVD反应腔室用的无相差转盘结构的技术资料

文档序号:14979085

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型公开了一种MOCVD反应腔室用的无相差转盘结构,包括有上下叠置的耐高温托盘和耐高温金属驱动盘,该耐高温托盘的底面与耐高温金属驱动盘的顶面贴合;所述耐高温托盘和耐高温金属驱动盘之间通过其贴合面处紧密嵌合的凹凸结构进行准确定位,增加了...
该专利属于中山德华芯片技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中山德华芯片技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。