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一种化学气相沉积装置，包括：反应腔；设置于所述反应腔底部的基座，用于支撑一个或多个待处理基片；用于加热所述基座与基片的加热单元；设置于所述反应腔顶部的气体喷淋组件，包括第一进气装置和第二进气装置，所述气体喷淋组件与所述基座之间形成反应区；设...
该专利属于理想能源设备(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过理想能源设备(上海)有限公司授权不得商用。

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