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本发明公开了一种用于CVD法制备石墨烯的冷壁炉及连续生产方法，所述冷壁炉包括进样舱、工艺舱、出样舱，进样舱、工艺舱、出样舱依次连接，相邻舱室之间设有插板阀，用于连通或隔离相邻舱室，其中，所述工艺舱由中心向外围依次包括反应腔、均热板、加热层、...
该专利属于无锡格菲电子薄膜科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡格菲电子薄膜科技有限公司授权不得商用。

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