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本发明提供了一种雷米普利分子印迹整体柱，其制备方法为：将雷米普利、功能单体加入致孔剂和十二醇的混合液中，室温超声处理20～45min，再加入乙二醇二甲基丙烯酸酯、偶氮二异丁腈，继续于室温下超声处理20～45min至物料溶解，之后通入惰性气体...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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