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本发明提供了一种静电夹盘外围的插入环的介电常数的调整方法,所述插入环为能够通入和排出流体的中空腔体结构,所述调整方法包括:步骤A、获取插入环的预定介电常数;所述预定介电常数由反应腔体内待加工晶圆上方的等离子体密度及其分布确定;步骤B、根据所...该专利属于中微半导体设备(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中微半导体设备(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种静电夹盘外围的插入环的介电常数的调整方法,所述插入环为能够通入和排出流体的中空腔体结构,所述调整方法包括:步骤A、获取插入环的预定介电常数;所述预定介电常数由反应腔体内待加工晶圆上方的等离子体密度及其分布确定;步骤B、根据所...