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本发明涉及一种真空设备，具体涉及低生产成本、高效率、无污染、操作性好的实现光棒新工艺烧结的半连续双室高温真空炉，结构特征包括一是配有抽气装置，设备具备完善的密封结构；二是立式双室结构，上部是准备室工件由此进出，下部是加热室工件在此加热烧结，...
该专利属于沈阳广泰真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过沈阳广泰真空科技有限公司授权不得商用。

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