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本发明公开了一种光刻设备和可编程图案形成装置，包括被配置用于以根据所需图案调制的多个束将衬底的曝光区域曝光的调制器和被配置用于将被调制的束投影到所述衬底上的投影系统。所述调制器包括多个VECSEL或VCSEL。投影系统可以包括以Lissaj...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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