温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种半导体装置及制造鳍式场效晶体管装置的方法，该方法包含形成从隔离绝缘层伸出的第一与第二鳍结构；在第一与第二鳍结构上方形成栅极结构，每一第一与第二鳍结构具有在栅极结构外且具有第一宽度的源极/漏极区；移除源极/漏极区的侧壁的部分以形成经修整的...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。