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本发明公开了一种常压低温等离子体技术制备复合膜的方法，属于膜分离技术领域。其特征是以多孔介质为基膜，基膜静置浸泡预涂覆单体；以氩气作为放电气体，对预涂覆的基膜进行常压低温等离子体辐照，引发接枝反应；进行辐照后接枝反应制备复合膜。本发明的效果...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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