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本发明提供一种等离子体处理装置，包括多个电感耦合型天线(41)，多个电感耦合型天线(41)具有：至少一个基准天线(41a)，与基材(9)的主面(S)的中央部相向地配置；以及多个辅助天线(41b)，与基材(9)的主面(S)的端部相向地配置。高...
该专利属于株式会社思可林集团所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社思可林集团授权不得商用。

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