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一种沉积掩模包括具有多个图案孔的掩模主体；从所述掩模主体突出的多个突出物；以及形成在所述掩模主体中的多个凹槽，其中所述掩模主体的颗粒尺寸在约10μm至约1000μm的范围中，且其中所述多个突出物的最大高度和所述多个凹槽的最大高度之间的差异等...
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