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一种研磨系统，该研磨系统包括支座以固持具有将被研磨的基板表面的基板、保持研磨垫与该基板表面接触的载体，及压力施加器，以在研磨垫的背面的选定区域施加压力。该背面与该研磨表面相对。该压力施加器包括致动器及主体，该主体经配置以由该致动器移动来接触...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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