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本文公开了用于加工纳米结构的方法和系统。特别地，本文公开了用于在半导体制造期间加工纳米结构的方法，包括干燥纵横比高的纳米结构。还公开了用于实施本文公开的方法的系统。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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