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本发明公开了一种改进的数字隔离器线圈及其制作方法，包括：提供包含下层线圈的晶圆基片；在晶圆基片上沉积第一绝缘层；在第一绝缘层上局部沉积一籽晶层；在籽晶层上，光刻定义一图案，图案与下层线圈重叠；在步骤四的光刻位置沉积一金属层；去掉步骤二的第一...
该专利属于中颖电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中颖电子股份有限公司授权不得商用。

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