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本发明提供一种上层膜形成用组合物与使用了其的图案形成方法，所述上层膜形成用组合物在基于极紫外线曝光的图案形成方法中，可形成粗糙度和/或图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物、以及将该组合物涂布于抗蚀层表面，通过曝光显影从而形成图案的方法...
该专利属于AZ电子材料（卢森堡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过AZ电子材料（卢森堡）有限公司授权不得商用。

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