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一用来涂敷一基底（３）、尤其是一透明的基底的系统（１），该系统包括至少一个涂敷腔室（２）、至少一个用来在涂敷腔室（２）内产生一真空的泵装置（５），以及至少一个喷溅阴极（９）。一个或多个阴极（９）连同经历处理诱发的脏物的系统部件一起集成在一插...
该专利属于应用薄膜两合股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用薄膜两合股份有限公司授权不得商用。

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