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在基底上旋涂自组装单分子层或周期性有机硅(酸盐)的系统和方法技术方案
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文档序号:14641076
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本公开内容涉及一种用于利用分子自组装(MSA)化学品旋涂基底以在基底上形成光致抗蚀剂膜和/或低介电常数(低k)膜的处理系统。旋涂处理系统可以包括能够将MSA化学品接收和旋涂在基底上的旋涂室,以及以在旋涂工艺之后对基底进行热处理的退火室。在某...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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