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本实用新型属于物理气相沉积领域，公开了一种阳极场辅磁控溅射镀膜装置，该装置包括真空腔体、工件盘和至少两个由电源Ⅰ供电的磁控溅射靶，在相邻的磁控溅射靶之间设有由电源Ⅱ供电的水冷阳极，在真空腔体内形成闭环结构。本实用新型将等高的水冷阳极和磁控溅...
该专利属于中国科学院兰州化学物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院兰州化学物理研究所授权不得商用。

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