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本发明提供了一种透射电子显微镜样品结染色的方法，包括：处理芯片样品至露出接触孔；使用第一化学试剂去除接触孔中的填充物；使用第二化学试剂去除接触孔下方结中的掺杂硅；在制样区域上方沉积填充保护层；利用离子束切割透射电子显微镜样品的相对侧部的两个...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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