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本发明公开了一种新型的掩模清洗方法，其包括以下步骤：S1、使用臭氧和去离子水的混合液进行清洗，去除光刻胶等有机物或是缺陷修补后所产生有机污染物；S2、使用SC‑1清洗液进行掩模清洗，确保残留颗粒去除彻底；S3、使用去离子水再次清洗，以去除残...
该专利属于无锡中微掩模电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡中微掩模电子有限公司授权不得商用。

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