下载一种多晶硅片背面钝化工艺的技术资料

文档序号:14410056

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本发明涉及多晶硅太阳能电池生产领域,具体是一种多晶硅片背面钝化工艺。一种多晶硅片背面钝化工艺,放置多晶硅片在加热炉中,升温到910摄氏度,持续通入气化三溴化硼,停止通入三溴化硼,通入氮气1分钟后停止;保持温度970摄氏度不变,通入氮气和一氧...
该专利属于山西潞安太阳能科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过山西潞安太阳能科技有限责任公司授权不得商用。

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