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本发明涉及屏蔽罩支架高精准度贴膜方法，包括以下步骤：S1、前处理：将用于成型屏蔽罩支架的底带置于底带槽内，由拖料机构向前拖动，同时通过除尘装置对底带表面进行除尘处理；S2、底带覆膜：覆膜机构对经过除尘处理的底带表面进行覆膜，得到覆膜底带；S...
该专利属于成都宏明双新科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过成都宏明双新科技股份有限公司授权不得商用。

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