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一种半导体结构的形成方法，包括：提供基底、位于基底表面的待刻蚀层、以及位于待刻蚀层表面的金属膜；在金属膜表面形成金属有机材料膜；图形化金属有机材料膜，在金属膜表面形成具有第一线边缘粗糙度的金属有机材料层；对金属有机材料层侧壁进行氢还原处理，...
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