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纯水供应系统和清洗系统和使用纯水的清洗方法技术方案
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文档序号:1434167
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提供一种系统,该系统在不增加批量生产半导体工厂中制造的纯水量的条件下能够提供几乎不包含溶解气体的纯水和包含溶解气体的纯水。在本发明中,使用纯水供应系统提供纯水,该纯水供应系统包括:用于制造具有0.4ppm或0.4ppm以下的溶解气体浓度的纯...
该专利属于尔必达存储器株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过尔必达存储器株式会社授权不得商用。
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