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本发明涉及具有至少一个斜面的硅基部件，所述硅基部件是由这样的方法形成的：所述方法结合了至少一个倾斜侧壁蚀刻步骤和竖直侧壁“博世”蚀刻，由此使得由微加工硅基片形成的部件能够有美学改进和改善的机械强度。...
该专利属于尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过尼瓦洛克斯-法尔股份有限公司授权不得商用。

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