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一种优化开关特性的超结半导体器件及制造方法技术
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文档序号:14277245
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本发明涉及一种优化开关特性的超结半导体器件及制造方法,其特征在于:在沟槽栅型超结半导体器件的表面引入集成电容区,集成电容区包括栅电容板、第一绝缘介质层和第二导电类型体区,在半导体截面方向上,第一绝缘介质层与半导体基板相邻区域为第二导电类型体...
该专利属于无锡新洁能股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡新洁能股份有限公司授权不得商用。
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