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本发明涉及一种低压等离子设备(10)。所述低压等离子设备(10)具有处理腔(12)。所述处理腔(12)在第一处理步骤，即泵吸中，通过泵(14)来泵吸。在第二处理步骤中，即处理气体调整中，附加地打开气体供应阀(20)，以便在较低的压力下在处理...
该专利属于克里斯托夫-赫伯特·迪纳所有，仅供学习研究参考，未经过克里斯托夫-赫伯特·迪纳授权不得商用。

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