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本发明提供了一种测试有源区顶部圆滑度的方法，包括：测量浅沟槽隔离刻蚀完成后的有源区上部残留硬质掩模层的顶部线宽、硬质掩模层的残留厚度及硬质掩模层的倾斜角度，并计算出硬质掩模层底部线宽；测量浅沟槽隔离刻蚀完成后的有源区底部线宽、浅沟槽深度及有...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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