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本实用新型公开了一种用于MOCVD反应室的清洁系统，包括具有温度控制功能的气体管路、具有温度控制功能的过滤装置、具有温度控制功能的冷阱；其中，所述MOCVD反应室的出口连接至气体管路的入口，所述气体管路的出口连接至过滤装置，所述冷阱设置在过...
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