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提供了一种用于EUV光刻的防护薄膜组件。所述用于EUV光刻的防护薄膜组件包括形成在第一无机层上的第一结合层和具有碳纳米结构的强度增强层，其中，第一结合层增强第一无机层与强度增强层之间的结合力，通过包括具有碳纳米结构的强度增强层来提高防护薄膜...
该专利属于汉阳大学校产学协力团所有，仅供学习研究参考，未经过汉阳大学校产学协力团授权不得商用。

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