下载半导体器件和制造方法的技术资料

文档序号:14120544

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本发明提供了一种半导体器件和制造方法。放置与所述通孔电连接的可回流材料,其中,通孔延伸穿过密封剂。在可回流材料上方形成保护层。在实施例中,在保护层内形成开口以暴露可回流材料。在另一实施例中,形成保护层从而使得可回流材料延伸为远离保护层。本发...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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