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本发明提供了一种掩膜版及掩膜曝光系统、拼接曝光方法，本发明中，在主体曝光区域的第一侧边缘设置第一曝光区域，第二侧边缘设置第三曝光区域，还设置位于第一曝光区域和第三曝光区域之间的第二曝光区域；其中，所述第一曝光区域的遮光图案与所述第二曝光区域...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司授权不得商用。