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本发明公开了一种晶圆研磨头清洗装置及清洗方法，通过在传统采用清洗液体对研磨头进行清洗的同时，增加对研磨头进行超声波清洗，以及在清洗后增加对研磨头底部进行高压气体吹扫，依靠超声波的超强清洗能力和气体的高压净化能力，能够更彻底地清洁研磨头，从而...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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