温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
本实用新型公开了一种等离子体刻蚀装置和干法刻蚀设备，用以通过所述等离子刻蚀装置实现对被刻蚀基板的均匀刻蚀，避免被刻蚀基板由于刻蚀不均匀而造成的不良，提高产品的质量。所述等离子体刻蚀装置，包括反应腔室、位于反应腔室内的相对而置的下部电极和上部...该专利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。