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本发明提供一种曝光基台及其制备方法、曝光机，属于光刻技术领域，其可解决现有的曝光基台的浮雕图案会在玻璃基板的光刻胶形成色差图案，导致显示产品画面品质差，良率低的问题。本发明的曝光基台的本体上设有第一膜层，第一膜层上设有多个支撑部，当对放置在...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司授权不得商用。