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本发明涉及一种阵列基板的制作方法及相应装置，用以解决目前现有的TFT阵列基板，一般需进行7次掩膜曝光，制作工艺较为复杂，且需要在保护层上设置过孔，制作工艺难度大的问题。该方法包括：在衬底基板上依次形成遮光层、有源层、层间绝缘层、像素电极、源...
该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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