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本发明提供了一种用于执行版图OPC处理的方法，包括：系统接收集成电路的版图布局数据；系统将集成电路的版图布局数据切割成多个初始版图布局图形；系统确定切割后每一个初始版图布局图形的第一图形密度；系统调用建立OPC处理模型时所对应的第二图形密度...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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