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激光辅助放电EUV光源放电系统，涉及极紫外(Extreme Ultraviolet,EUV)光刻光源领域，目的是为了满足Sn介质激光辅助放电等离子体(LDP)EUV光源的发展需要。该放电系统的高压电极与地电极为同轴设置的两个圆盘，多根金属杆...
该专利属于哈尔滨工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过哈尔滨工业大学授权不得商用。

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