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本发明公开了一种离子注入层阴影效应分析结构的形成方法，包括：提供一阴影效应测试晶圆，所述阴影效应测试晶圆包括离子注入区和非离子注入区，在阴影效应测试晶圆表面形成厚度沿一X方向呈连续梯度分布的光刻胶层，图形化光刻胶层，以在阴影效应测试晶圆的非...
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