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衬底处理装置、顶棚部及半导体器件的制造方法制造方法及图纸
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文档序号:13742843
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本发明在提高衬底面内的温度均匀性的同时迅速地降低炉内温度。具有:反应管,其对衬底进行处理;加热部,其配置在反应管的外周,且对反应管内进行加热;隔热部,其配置在加热部的外周;流路,其在隔热部上设有多个,且供外部气体或冷却介质流通;和顶棚部,其...
该专利属于株式会社日立国际电气所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社日立国际电气授权不得商用。
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