专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
纳米技术有限公司
>
H2S反应性退火以降低源自纳米粒子的薄膜中的碳制造技术
>技术资料下载
下载H2S反应性退火以降低源自纳米粒子的薄膜中的碳的技术资料
文档序号:13722918
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
用于使用CIGS纳米粒子在基板上制备CIGS吸收层的方法包括一个或多个退火步骤,所述退火步骤包括加热一个或多个CIGS纳米粒子膜以将膜干燥并且可以将CIGS纳米粒子熔合在一起以形成CIGS晶体。通常,至少最终退火步骤将会引起粒子熔合以形成C...
该专利属于纳米技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过纳米技术有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。