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公开了用于蚀刻氧化铟层的蚀刻剂组合物及使用其制作显示基板的方法，其中蚀刻剂组合物不包含对环境有害的硫酸，蚀刻后不产生残留物，并且在蚀刻过程中不损害如由Cu，Ti，Mo或Al制成的下层。...
该专利属于东友精细化工有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过东友精细化工有限公司授权不得商用。

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