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本发明公开一种阵列基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该方法包括：在衬底基板上依次形成栅极和栅绝缘层；在形成有栅绝缘层的衬底基板上依次形成有源层薄膜和阻挡层薄膜；通过一次构图工艺对有源层薄膜和阻挡层薄膜进行处理，形成有源层和阻挡层...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司授权不得商用。