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公开了化学机械抛光组合物以及抛光基材的方法。所述抛光组合物包含：湿法铈土研磨剂颗粒(例如120纳米或更低)；至少一种醇胺；至少一种具有至少一个亲水性部分和至少一个疏水性部分的表面活性剂，该表面活性剂具有1,000的分子量；以及水，其中所述抛...
该专利属于嘉柏微电子材料股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过嘉柏微电子材料股份公司授权不得商用。

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